Поиск по всей станции
LNEYA thermal chillers are designed for demanding temperature control applications and helps you with your business with professional technology.
The Leader in Semiconductor Chiller Solutions
Самый низкий
Самый высокий
Точность контроля температуры
Contact LNEYA sales engineer for catalog or price.
| FLTZ | 202/202W~215/215W | ||
| Диапазон температур | -25℃～90℃ | ||
| Точность контроля температуры | ±0,05℃（Установившаяся температура на выходе） | ||
| Контроль потока | 10~75L/min | ||
| Охлаждающая способность @-15℃ | 2kW~15kW | ||
| Внутренний объем циркулирующей жидкости | 4L~20L | ||
| Объем расширительного бака | 10L~35L | ||
| Хладагент | R404A | ||
| Холодильная среда | Силиконовое масло, фторированная жидкость, раствор гликоля и т.д. | ||
| Поток охлаждающей воды @20℃ | 1.2m³/H~10.2m³/H | ||
| Размер см | 950*380*1055~1080*600*1500 | ||
• The chiller can help the process control the temperature of the cleaning tank to avoid thermal stress causing wafer warping and prevent the pump unit from overheating.
• Specific constant temperature environment must be maintained after photoresist coating.
• During dry etching, the cavity RF power supply must be kept cool within a specific temperature range to prevent overheating and process drift.
thermal chiller is widely used in semiconductor application scenarios that require two-way temperature control due to its wide temperature range.
Wafer cleaning requires the use of chemical liquids such as SC1 (ammonia + hydrogen peroxide) and SC2 (hydrochloric acid + hydrogen peroxide) to clean the wafer, and the reaction temperature must be stably controlled at 25℃-80℃,The chiller can help the process control the temperature of the cleaning tank to avoid thermal stress causing wafer warping and prevent the pump unit from overheating.
DUV/EUV lithography machines are extremely sensitive to temperature fluctuations, so a specific constant temperature environment must be maintained after photoresist coating. Semiconductor chillers can provide a constant temperature environment for lithography machines.
During dry etching, the cavity RF power supply must be kept cool within a specific temperature range to prevent overheating and process drift.
In addition, semiconductor back-end processes such as metal interconnection, packaging, and testing have strict requirements on temperature uniformity and require the help of thermal chillers.
Temp range -25~90℃
Temp accuracy ±0.05℃
Temp range -45~90℃
Temp accuracy ±0.05℃
Temp range -80~90℃
Temp accuracy ±0.05℃
Temp range -100~90℃
Temp accuracy ±0.05℃
Обслужил более 30 000 клиентов.
Экспортируется в более чем 20 стран.
Прошла сертификацию CE, SGS, ISO.
Обеспечьте комплексное техническое обучение.
Круглосуточные решения.
Основана в 2010 году, имеет 15-летний опыт работы в отрасли.
20% сотрудников - это технические специалисты.
Визуальный осмотр.
Тест на производительность.
Тест на электробезопасность.
Get in touch with our Thermal chiller experts
Свяжитесь с нами прямо сейчас, чтобы получить подробную информацию о чиллерах и цены.
Связаться с ЛНЕЙЯ
Отправьте нам свой запрос, и мы свяжемся с вами в течение 24 часов
LNEYA Промышленные чиллеры Производитель Поставщик
