Точный контроль температуры многих процессов в производстве полупроводников. Наносите чрезвычайно тонкие слои, частично маскируйте и удаляйте непокрытые части с абсолютной точностью практически за неограниченное количество отдельных шагов. Ванны для травления должны поддерживаться в оптимальном температурном диапазоне, чтобы поддерживать постоянную и предсказуемую скорость травления во влажных химических процессах. Это требует использования абсолютно точных и надежных решений для контроля температуры.

Температурный контроль травильных ванн для мокрого химического изготовления пластин и микросхем. Другими областями применения являются функциональные и материальные испытания электрических и электронных компонентов и функциональных групп с использованием непроводящих теплоносителей, таких как Galden или FC77. Идеально сбалансированная система контроля температуры не только улучшает производственные результаты, но также повышает надежность процесса и сокращает время производства, затраты и техническое обслуживание.